La métrologie par rayons X révèle des défauts invisibles dans les puces complexes
9/10Une nouvelle technique de métrologie par rayons X utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs permet de détecter des défauts jusqu'ici invisibles dans des puces complexes. Cette avancée pourrait améliorer significativement le contrôle qualité et la fiabilité des processus de fabrication.
